System Development Engineer AIMS DUV Photomask Metrology (m/w/x)
Date de publication :
15 août 2024Taux d'activité :
100%- Lieu de travail :Jena
Ihre Rolle
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entwickeln, analysieren, optimieren feinmechanischer und optischer Systeme für hochpräzise Messaufgaben in der DUV-Photomasken Metrologie
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erarbeiten und Bewerten von Error Budgets
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Entwicklung von System- und Baugruppenkonzepten
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Simulation der Einflüsse auf die Messgenauigkeit und Ableitung der Entwicklungsschwerpunkte
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koordinative und interdisziplinäre Rolle in einer Matrixorganisation im agilen Arbeitsumfeld
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enger Austausch mit Teamkollegen des Engineerings sowie Service und Operations und Unterstützung bei Troubleshootings
Ihr Profil
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ein erfolgreich abgeschlossenes Studium im naturwissenschaftlich-technischen Bereich mit Schwerpunkt Optik/Optikdesign/Systemtechnik (Promotion von Vorteil)
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Berufserfahrung in der Umsetzung anspruchsvoller Entwicklungsaufgaben und im Projektmanagement
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eine große Leidenschaft für Präzisionsmesstechnik und ggf. Kenntnisse zur automatisierten Datenanalyse
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sehr gute Kenntnisse in der Mikroskopie, Erfahrungen im Umgang mit Lasern bis Klasse 4 und optischen Simulationen, sowie gute Matlab-Kenntnisse
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ein hohes Maß an Selbstständigkeit, eine innovative und strukturierte Arbeitsweise, sowie die Fähigkeit komplexe Sachverhalte klar und strukturiert aufzubereiten, zu präsentieren und zu dokumentieren
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Teamfähigkeit sowie Spaß am Arbeiten in einem global agierendem Team
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sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift
Your ZEISS Recruiting Team:
Friederike Steindel